DHMS 系列 磁控濺射鍍膜儀
可采用直流(DC)濺射,濺射金屬靶材制備金屬膜,也可采用射頻(RF)濺射,可濺射金屬和氧化物靶材,制備金屬或氧化物膜??芍谱鞲鞣N單層或多層薄膜,如鐵電、導電,合金,半導體,陶瓷,介電,光學,氧化物和 PTFE 薄膜等。而且設備體積較小操作方便,是一套理想的實驗工具。
技術參數
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可采用直流(DC)濺射,濺射金屬靶材制備金屬膜,也可采用射頻(RF)濺射,可濺射金屬和氧化物靶材,制備金屬或氧化物膜??芍谱鞲鞣N單層或多層薄膜,如鐵電、導電,合金,半導體,陶瓷,介電,光學,氧化物和 PTFE 薄膜等。而且設備體積較小操作方便,是一套理想的實驗工具。
技術參數